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       真空鍍膜設(shè)備的加熱方式主要包括以下幾種：

       1、電阻式加熱：

       利用發(fā)熱體通電后產(chǎn)生焦耳熱來獲得高溫，熔融膜材料使其蒸發(fā)。這種加熱方式結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本較低。

       具體形式有絲狀電阻源、舟狀電阻源、坩堝加熱器等。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

       但其缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐受高溫的介質(zhì)材料。

       2、電子束加熱：

       通過電場(chǎng)加速電子，使其獲得動(dòng)能打到膜材上，使膜材料加熱氣化。

       這種加熱方式比電阻式加熱熱效率越高，可以直接加熱到材料表面，提高膜的純度。

       具體形式還有磁偏轉(zhuǎn)式電子束加熱、空心熱陰極等離子電子束加熱等。

       電子束加熱適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，例如不低于2000℃。

       3、感應(yīng)式加熱：

       將裝有膜材料的坩堝放在螺旋線圈的中間（不接觸），再在線圈中通高頻電流，膜材料在高頻電磁感應(yīng)下產(chǎn)生渦流出現(xiàn)升溫，直至蒸發(fā)。

       這種加熱蒸發(fā)方式的特點(diǎn)是對(duì)膜材料的純度要求相對(duì)較低，蒸發(fā)源溫度穩(wěn)定，蒸發(fā)速率大。

       除了上述常見的加熱方式外，真空鍍膜設(shè)備還可能有其他的加熱方法，例如：

       電弧加熱：被蒸發(fā)材料作陰極，耐受高溫的鉬桿作陽極，在高真空下通電時(shí)，在兩電極間產(chǎn)生弧光放電，使陰極材料蒸發(fā)。

       激光加熱：用激光束作為熱源，使被蒸發(fā)材料汽化。但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前主要在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。

       在選擇加熱方式時(shí)，需要根據(jù)具體的鍍膜材料、工藝要求、設(shè)備成本等因素進(jìn)行綜合考慮。同時(shí)，為了確保鍍膜的質(zhì)量和效率，還需要注意真空鍍膜設(shè)備的操作和維護(hù)，確保加熱系統(tǒng)的穩(wěn)定性和牢靠性。
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