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真空鍍膜設(shè)備
科技創(chuàng)新為動力 專業(yè)服務(wù)為目標(biāo)真空鍍膜設(shè)備
常規(guī)配置 ? 真空泵系統(tǒng) 低真空泵:旋片式機(jī)械泵(蒸壓機(jī)械泵:930m3 h-1) 高真空泵:擴(kuò)散泵(選擇:低溫泵或滑輪分子泵) ? 真空閥系統(tǒng) 型號:3/8”,2”,4”,22“ ? 真空室加熱系統(tǒng) 高溫度:0到400℃ 型號:滷素?zé)簦ㄟx擇:微型加熱器) 基片型號:球面型或行星型 轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)速/分 軟起,軟停,可調(diào)速瀘 ? 電子控制系統(tǒng) 型號:計(jì)算機(jī)控制面板 可修改和改變?nèi)魏涡枰目刂?br /> 全程控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品所需的要求 提供所需要的技術(shù)信息 ? 真空計(jì)系統(tǒng) 高真空感應(yīng)器:2 低真空感應(yīng)器:1 |
選擇配置 ? 薄膜沉積控制系統(tǒng) 沉積控制:IC-5 (INFICON) MDC360 (MAXTEK)等等 石英晶髓感應(yīng)器:1,2,6頭 ? 光控離子源 無柵型:直流型 燈絲型:直流型,頻射型 ? 電子束源 容量:15cc,25cc,40cc等等 偏轉(zhuǎn)角度:180度或270度 坩鍋:4,6,8倜等等 ? 深冷系統(tǒng) 除霜室 擴(kuò)散泵 ? 水冷卻系統(tǒng) 水或氣冷卻器 |